- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
Détention brevets de la classe C23C 16/458
Brevets de cette classe: 3145
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Applied Materials, Inc. | 16587 |
644 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
329 |
Lam Research Corporation | 4775 |
238 |
Kokusai Electric Corporation | 1791 |
143 |
ASM IP Holding B.V. | 1715 |
138 |
Aixtron SE | 288 |
68 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
60 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
48 |
Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | 145 |
36 |
Sumco Corporation | 1116 |
33 |
Veeco Instruments Inc. | 332 |
31 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
27 |
Picosun Oy | 130 |
27 |
NuFlare Technology, Inc. | 770 |
25 |
Eugene Technology Co., Ltd. | 171 |
22 |
LPE S.p.A. | 65 |
20 |
Jusung Engineering Co., Ltd. | 359 |
19 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
17 |
Beneq Oy | 205 |
17 |
Siltronic AG | 395 |
17 |
Autres propriétaires | 1186 |